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EUV光刻市场规模及份额主要参与者
电子半导体与ICT

EUV光刻市场规模及份额

EUV Lithography

EUV光刻市场规模及份额采用结构化市场口径;市场规模覆盖2025年、2030年;预测期复合年增长率为9.49%。

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更新时间2026-07-31
内容类型市场研究报告

市场研究正文

规模、增长、细分、驱动因素与关键问题

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核心结论

EUV光刻市场规模及份额采用结构化市场口径;市场规模覆盖2025年、2030年;预测期复合年增长率为9.49%。

市场走势

结构化指标

指标年份数值性质
预测期复合年增长率20309.49%机构预测
市场规模2025USD 23.71B机构预测
市场规模2030USD 37.32B机构预测

细分市场份额

foundries end_user_type · 202453.300%
Asia-Pacific geography · 202464.400%
Light Sources product_type · 202446.300%
the 5 nm class technology_node · 202434.200%

市场结构

维度细分项年份份额
end_user_typefoundries202453.300%
geographyAsia-Pacific202464.400%
product_typeLight Sources202446.300%
technology_nodethe 5 nm class202434.200%

关键结论

  • end_user_type 维度中,foundries 在 2024 年的公开份额为 53.3%。
  • geography 维度中,Asia-Pacific 在 2024 年的公开份额为 64.4%。
  • product_type 维度中,Light Sources 在 2024 年的公开份额为 46.3%。
  • technology_node 维度中,the 5 nm class 在 2024 年的公开份额为 34.2%。

主要参与者

  1. TSMC
  2. Samsung

增长驱动因素

因素影响 CAGR地区相关性影响周期
对 < 5 nm 逻辑和存储节点的需求+3.800%全球,主要集中在亚太地区中期(2-4 年)
加速 AI/5G/HPC 产能建设+2.400%北美、亚太地区短期 (≤ 2年)
政府半导体补贴计划+1.700%北美、欧洲、亚太地区中期(2-4 年)
过渡到高数值孔径 (0.55 NA) EUV 平台+1.200%全球长期(≥ 4 年)
薄膜突破带来的生产力飞跃+0.800%全球中期(2-4 年)
基于ERL的紧凑型EUV光源研发动量+0.500%北美、亚太地区长期(≥ 4 年)

市场制约因素

因素影响 CAGR地区相关性影响周期
1.5 亿美元以上系统成本和晶圆厂改造复杂性-3.200%全球中期(2-4 年)
单一供应商依赖性和供应链瓶颈-2.100%全球短期(≤ 2 年)
EUV 光刻胶的随机缺陷率-1.100%全球中期(2-4 年)
稀缺性经过 EUV 培训的现场服务工程师-0.900%全球,主要集中在亚太地区短期(≤ 2 年)

报告关注的关键问题

EUV 光刻市场目前的规模和增长前景如何?

2025 年市场估值为 237.1 亿美元,预计将达到 10.7 亿美元到 2030 年,这一数字将达到 373.2 亿美元,复合年增长率为 9.49%。

到 2030 年,哪个产品领域预计增长最快?

由碳纳米管膜驱动的薄膜表现出最高的势头,预计 2025-2030 年复合年增长率为 18.5%。

高数值孔径扫描仪如何影响资本预算?

每个 0.55NA 工具成本约为 3.84 亿美元,是标准 EUV 单元的两倍多,但将晶体管密度提高了 2.9 倍,降低了多重图案化和长期晶圆成本。

哪个地理位置引领需求,哪个地区扩张最快?

亚太地区控制着 2024 年收入的 64.4%,而随着新技术投资的吸引力,中东和非洲地区到 2030 年的复合年增长率将达到 11.1%。

更广泛采用 EUV 的主要障碍是什么?

高系统价格和晶圆厂改造复杂性(对预测 CAGR 的影响为 -3.2%)和单一供应商依赖性(影响 -2.1%)是最重要的障碍。

Vieter 校准:机构预测不等于实际成交、订单、交付或出货。跨报告比较需要同时核对市场边界、基准年、币种及是否包含软件服务。本站不提供报告原文或全文译文。
查看来源:Mordor Intelligence