半导体薄膜市场（2024 - 2030）

半导体薄膜市场摘要

随着行业朝着更小、更复杂的芯片设计方向发展，光刻过程中所需的精度可能会提高。随着转向 EUV 光刻来生产更小的节点，例如 7 纳米和 5 纳米，薄膜的使用可能对于保持掩模完整性、减少缺陷和确保芯片生产过程中更高的产量至关重要。人工智能、5G 电信和电动汽车等行业对先进芯片需求的增长预计将加速对复杂半导体制造工艺的需求，从而推动市场增长。

半导体咒语icle 市场本质上竞争极其激烈，其特点是存在多个区域和国际参与者。知名企业正在采取各种策略来获得市场份额，例如投资研发以生产能够承受极紫外（EUV）光刻恶劣条件的薄膜，这对于先进芯片制造至关重要。公司还与半导体制造商和设备供应商建立伙伴关系和合作，以使薄膜开发与新兴光刻技术保持一致。一些厂商正在扩大产能并提高供应链效率，以满足领先半导体晶圆厂不断增长的需求。

类型洞察

ArF（氟化氩）薄膜主导市场，2023 年收入份额为 51.9%，预计在预测期内将进一步大幅增长。 ArF浸没式光刻广泛应用于人类10纳米以下芯片的制造，这对于高性能计算、人工智能（AI）和5G技术至关重要。随着对更小、更强大芯片的需求不断增长，对能够在光刻过程中保护光掩模而不影响分辨率的 ArF 薄膜的需求也可能会增加，特别是在大批量生产环境中。

预计 KrF 薄膜的需求将在 2024-2030 年期间大幅增长。这是由于汽车电子、工业设备和物联网等应用中使用的传统节点和芯片的产量不断增长。与 ArF 相比，KrF 光刻的工作波长更长，并且对于生产更大的特征尺寸更具成本效益。这些行业对半导体的需求不断增长，预计将增加对高质量 KrF 薄膜的需求，以保持掩模完整性并确保生产过程中的良率，从而推动其在行业中的广泛采用。

应用洞察

2023 年，IC 代工占据了最大的收入份额，达到 49.0%。向更小工艺节点的转变和极紫外光刻 (EUV) 的广泛采用预计将推动 IC 代工应用中对该产品的需求。代工厂为汽车、人工智能和电信等多个行业制造日益先进的集成电路 (IC)，确保最高产量并减少缺陷变得至关重要。薄膜在保护光刻工艺中使用的光掩模免受污染方面发挥着重要作用，污染可能导致代价高昂的缺陷和较低的产量。这些因素预计将增加 IC 代工应用中对该产品的需求。

IC 凸块应用预计将在预测期内大幅增长。在 IC 凸块应用中由于微小的焊料凸点用于将芯片连接到基板或其他组件，因此对半导体薄膜的需求也可能会增长。凸块工艺需要极高的精度，以确保正确的对准和功能，即使光掩模中的微小缺陷或污染也可能导致最终产品出现重大问题。薄膜有助于防止此类污染，确保光掩模在光刻过程中保持清洁。随着对高性能 IC 的需求增加，特别是在 5G 和先进计算等领域，IC 凸块应用中对薄膜的要求变得更加明显，以保持制造过程中的质量和效率。

区域见解

2023 年北美半导体薄膜市场占收入份额为 23.5%。该地区对半导体制造和创新的投资不断增长，尤其是在美国，可能会提升产品要求。此外，《CHIPS 法案》等政府举措旨在促进国内半导体生产，减少对外国供应链的依赖，从而推动市场增长。

美国半导体薄膜市场趋势

美国半导体薄膜市场预计在预测期内将以 7.5% 的复合年增长率增长。该国加大力度加强半导体制造能力预计将刺激产品需求。为了减少对外国半导体供应的依赖，主要芯片制造商正在大力投资新晶圆厂和 EUV 光刻等先进技术。这种增长，加上政府通过资金和激励措施提供的支持，正在推动对高性能薄膜的需求，以确保半导体生产工艺的可靠性和效率。

欧洲半导体薄膜市场趋势

SEM预计 2024 年至 2030 年，欧洲半导体薄膜市场将以 6.6% 的复合年增长率增长。欧盟一直在推动增加本地半导体产量的举措，重点关注汽车、航空航天和医疗保健等需要先进芯片的行业。总部位于欧洲的 EUV 光刻设备领导者 ASML 等公司，有强大的动力支持当地半导体供应链，包括薄膜开发，进一步推动市场增长。

亚太半导体薄膜市场趋势

预计亚太地区半导体薄膜市场在预测期内将以最高复合年增长率增长。亚太地区，特别是台湾、韩国和日本等国家，由于台积电、三星和 SK 海力士等领先芯片制造商的存在，对半导体薄膜的需求正在增加。这些公司处于尖端半导体的最前沿技术，并严重依赖 EUV 光刻来进行先进的芯片生产。随着他们不断扩大生产以满足全球需求，特别是消费电子和 5G 的需求，预计未来几年对高质量薄膜的需求将进一步增加。

主要半导体薄膜公司见解

市场上的一些主要参与者包括日亚化学株式会社和信越化学有限公司。

• 三井化学公司是一家日本领先的化学品和先进材料制造商和供应商。该公司生产多种产品，包括用于汽车、医疗保健、电子和包装等行业的高性能聚合物、弹性体和特种化学品。三井化学也是半导体市场的重要参与者，为半导体光刻提供薄膜等关键材料，特别是 EUV（极紫外）和 DUV（深紫外）紫罗兰色）光刻工艺。

• 信越化学有限公司是全球领先的化学产品制造商和供应商，专注于有机硅、半导体材料、PVC 和稀土磁体。该公司提供广泛的产品，包括半导体级硅晶圆、光刻用薄膜以及电子、建筑、汽车、医疗保健和能源等行业的各种化学解决方案。

Toppan Photomasks Inc. 和 Micro Lithography Inc. 是市场上的一些新兴参与者。

• Toppan Photomasks, Inc. 是全球领先的光掩模制造商和供应商，光掩模是使用的关键组件。在半导体制造的光刻工艺中。该公司提供广泛的光掩模产品，包括用于深紫外（DUV）和极紫外（EUV）光刻的先进掩模，以及用于光掩模保护的薄膜。服务于半导体在消费电子、电信和汽车技术等应用领域，凸版光掩模在生产先进芯片方面发挥着关键作用。

• Micro Lithography Inc. 是一家专门为半导体行业提供先进光刻设备和解决方案的制造商和供应商。该公司提供薄膜、光掩模和相关光刻材料等产品，这些产品对于半导体制造中使用的光刻工艺至关重要。 Micro Lithography Inc. 服务于一系列市场，包括半导体制造、微电子和先进纳米技术行业，帮助这些行业提高芯片生产的产量、精度和效率。

最新进展

• 2023 年 12 月，三井化学与 IMEC 合作，加速开发用于极紫外 (EUV) 光刻的薄膜。此次合作可能会增强三井物产在半导体市场的地位，支持其在先进光刻解决方案方面的增长，并加强其作为下一代半导体技术主要供应商的地位。

半导体薄膜市场